Physikalische Prozess, in dem Atome aus dem Target durch Beschuss mit energiereichen Ionen entfernt werden und geben der Gasphase – die Sputter – in Deutsch, der Kathode.

Der Begriff Sputtern verstanden meist nur die Sputter-Abscheidung. In Sputter Deposition liegt in der Nähe des Ziels Substrat hergestellt, kondensieren Atome dann freigegeben werden und bilden eine Reihe. Der Druck im System muss so niedrig sein, dass die Atome des Substrats Ziel zu erreichen gut. Wegen seiner großen technischen Bedeutung des Konzepts der Zerstäubung, der Sputtering  Deposition sofort.